均衡器螺旋流入和注入控制装置

我们的均衡器Helix™自动流入/注入控制装置（ICD）使用螺旋流动路径在完成时产生压力下降，沿整个侧向诱导一致的生产。该设计具有优于孔口或喷嘴ICD的显着优点，该孔或喷嘴ICDS使用流量收缩来产生压差，并且可以容易地侵蚀和堵塞。

均衡器Helix ICD使用表面摩擦来通过引导流过基管周围的螺旋通道来产生压降。具有大流量面积和低速，均衡器螺旋设计不易侵蚀或堵塞。它的抵抗等级是为应用程序定制的，以匹配储层和完成要求。特别推荐用于高气/油比井和天然气生产商以及水，蒸汽或化学喷射器井。

与Baker Hughes的砂控制屏幕结合时，均衡器螺旋ICD已在全球砂岩地层成功应用。均衡器螺旋综合性形成（CF）系统还具有验证的综合性综合性地层，如碳酸盐。